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光刻胶行业深度:市场空间、国产替代、产业链及相关公司深度梳理

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1/38 2024 年 9 月 30 日 行业|深度|研究报告 行业研究报告 慧博智能投研 光刻胶行业深度:市场空间、国产替代、产业链及相关公司深度梳理 光刻胶又名“光致抗蚀剂”,光刻胶具有光化学敏感性,通过利用光化学反应,并经曝光、显影、刻蚀等光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,是一种图形转移介质。光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微细加工技术的关键材料,可应用于 PCB、LCD 与集成电路等下游领域。光刻胶是泛半导体行业的核心材料。 围绕光刻胶行业,下面我们从其应用领域及分类展开探讨,对于光刻胶的重要性及产业链中上游进行细致梳理、对半导体制程提升背景下的市场空间及未来发展前景进行预测,并对其难以突破的技术、认证壁垒进行论述;对国...

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